小(xiao)面積上涂層(ceng)厚度的測量(liang)是(shi)個頭疼的問題，怎么選擇(ze)小(xiao)面積涂層(ceng)測厚儀呢？
我們先了解一(yi)下關于(yu)涂層(ceng)(ceng)(ceng)厚(hou)度測量的(de)基本知識，再逐步分析小面積上(shang)的(de)涂層(ceng)(ceng)(ceng)厚(hou)度的(de)測量方(fang)式。涂層(ceng)(ceng)(ceng)也叫(jiao)覆層(ceng)(ceng)(ceng)，涂層(ceng)(ceng)(ceng)覆層(ceng)(ceng)(ceng)厚(hou)度的(de)測量方(fang)法主要(yao)有(you)：楔切法，光(guang)截(jie)法，電解法，厚(hou)度差測量法，稱(cheng)重法，X射線熒(ying)光法，β射線反向散(san)射法(fa)，電容法(fa)、磁(ci)性(xing)(xing)測(ce)量(liang)(liang)法(fa)及渦(wo)流測(ce)量(liang)(liang)法(fa)等。這些方法(fa)中前(qian)五(wu)種是(shi)有損檢測(ce)，測(ce)量(liang)(liang)手(shou)段繁瑣，速度慢(man)，多適用于(yu)抽樣檢驗。生產(chan)中磁(ci)性(xing)(xing)法(fa)和渦(wo)流法(fa)是(shi)常用的涂(tu)層厚(hou)度測(ce)量(liang)(liang)方式，估計要占到95%以上。
X射線和β射線法是無接觸無損測量，但裝置復雜昂貴，測量范圍較小。因有放射源，使用者必須遵守射線防護規范。X射(she)線法可測極(ji)薄鍍(du)層、雙鍍(du)層、合(he)金鍍(du)層。β射線法適合鍍層和底材原子序號大于3的鍍(du)層(ceng)測量。電(dian)容法僅在(zai)薄導(dao)電(dian)體的絕緣覆層(ceng)測厚時采用(yong)。
申明(ming)一(yi)下，我司（無錫君(jun)達儀器）所知(zhi)道(dao)的(de)知(zhi)識也是有限的(de)，太深(shen)奧的(de)關于涂層厚度(du)的(de)測(ce)量機理(li)也不懂，我們(men)只是就自(zi)己(ji)掌握的(de)東西(xi)和(he)(he)大家交(jiao)流(liu)。文章謝絕復制和(he)(he)轉摘(zhai)！
測量涂層厚(hou)度(du)采用磁感應(ying)(ying)原理時，利用從(cong)測頭經過非鐵磁覆層而流(liu)入鐵磁基體(ti)的(de)磁通的(de)大(da)(da)小，來(lai)測定覆層厚(hou)度(du)。也可以測定與之(zhi)對應(ying)(ying)的(de)磁阻(zu)的(de)大(da)(da)小，來(lai)表示其覆層厚(hou)度(du)。覆層越(yue)(yue)厚(hou)，則磁阻(zu)越(yue)(yue)大(da)(da)，磁通越(yue)(yue)小。
測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)涂層厚(hou)度(du)采(cai)用電(dian)渦(wo)流(liu)原理(li)時，高(gao)頻交流(liu)信號在(zai)測(ce)(ce)(ce)(ce)頭(tou)線圈中(zhong)(zhong)產生(sheng)電(dian)磁場，測(ce)(ce)(ce)(ce)頭(tou)靠近導(dao)體(ti)時，就(jiu)(jiu)在(zai)其中(zhong)(zhong)形成渦(wo)流(liu)。測(ce)(ce)(ce)(ce)頭(tou)離導(dao)電(dian)基體(ti)愈近，則渦(wo)流(liu)愈大(da)，反射阻抗也(ye)愈大(da)。這個反饋作(zuo)用量(liang)表征了測(ce)(ce)(ce)(ce)頭(tou)與導(dao)電(dian)基體(ti)之間距離的大(da)小，也(ye)就(jiu)(jiu)是導(dao)電(dian)基體(ti)上非導(dao)電(dian)覆層厚(hou)度(du)的大(da)小。
在涂層厚(hou)度(du)(du)的實際測量中(zhong)，影響測量數據的度(du)(du)的因素有很多，比(bi)如(ru)邊緣(yuan)效應，表面粗糙度(du)(du)以及變形基體(ti)的磁性能電性能等。
這里講到了(le)邊緣(yuan)效應，就關(guan)乎小(xiao)(xiao)面(mian)積上涂層厚度(du)的測量了(le)。當工件(jian)面(mian)積很(hen)小(xiao)(xiao)，比如(ru)直徑小(xiao)(xiao)于5毫米，那么(me)無論是(shi)磁(ci)感應還是(shi)電渦(wo)流涂層(ceng)厚(hou)度測量(liang)原理，傳感器所發出的磁(ci)場或電渦(wo)流，作用在基體(ti)(ti)上后，電磁(ci)場將會是(shi)不規則的，這就給(gei)主機(ji)的計算帶來的困難，具體(ti)(ti)表現為(wei)無顯示，或即使有顯示，測試涂層(ceng)厚(hou)度數據(ju)和真實(shi)涂層(ceng)厚(hou)度數據(ju)差(cha)異很大。
用(yong)戶如果自(zi)己的(de)(de)產品(pin)面(mian)(mian)積很小，用(yong)普通的(de)(de)測(ce)厚(hou)儀(yi)是無(wu)法測(ce)量的(de)(de)，常規的(de)(de)涂層測(ce)厚(hou)儀(yi)要求工(gong)件面(mian)(mian)積直徑10mm以上(shang)。因為小面(mian)積的(de)(de)涂層厚(hou)(hou)度的(de)(de)測量(liang)要求(qiu)高同(tong)時市場需(xu)求(qiu)很小，這就給涂層測厚(hou)(hou)儀的(de)(de)研發帶來了效益上(shang)的(de)(de)考慮。目(mu)前，國內的(de)(de)小面(mian)積涂層厚(hou)(hou)度測量(liang)還是個薄弱環節，雖(sui)然標稱zui小可測5毫(hao)米，但效果差(cha)強人意。國(guo)(guo)外（德(de)國(guo)(guo)）的有測到磁性3毫米渦流2毫米的，使用起來(lai)還可以。國內的如TT260配F400探頭和CNO2探頭，探頭和主機需要(yao)較真（用戶不要(yao)動手(shou)！）國外的(de)EPK的(de)1100配(pei)N02探頭(tou)和F05探頭。具體(ti)的還(huan)需要進一步交流(liu)。
同時(shi)，正因為小面積的涂(tu)層厚(hou)(hou)(hou)度(du)的測(ce)量基本已經(jing)達(da)到(dao)本身小面積涂(tu)層厚(hou)(hou)(hou)度(du)測(ce)量的極(ji)限，所以，在小面積的涂(tu)層厚(hou)(hou)(hou)度(du)的實際測(ce)試時(shi)，涂(tu)層厚(hou)(hou)(hou)度(du)的測(ce)試精度(du)，客(ke)戶不(bu)要太較真(zhen)。
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